▣ 강좌명: 반도체리소그래피 소프트웨어 실습

▣ 강사: 홍지석 교수

▣ 강의일시: 25. 6. 30. (월) ~ 25. 7. 3. (목), 10:00~16:00 (※ 점심시간 1시간 포함)

▣ 교육장소 및 정원: 숭실대학교 조만식기념관 427호, 30명 미만(예정)

▣ 강의목표: 반도체 리소그래피 공정 시뮬레이션 및 Optical Proximity Correction 소프트웨어 활용 실습을 통한 실무 능력 확보

▣ 강의개요: 포토리소그래피 공정의 세부 항목을 시뮬레이션 툴로 모사하여 포토 공정 최적화 실무 능력을 확보하고,
                       첨단 패터닝 공정에 필수적으로 활용되는 OPC (Optical Proximity Correction) 기술을 S/W 실습을 통해 학습한다.

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▣ 접수 및 합격자발표:
  - 접수기간: 25. 6. 16. (월) ~ 25. 6. 25. (수)
  - 합격자발표: 25. 6. 27. (금) / ※ 개별 메일로 전달 예정

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